二手 EVG / EV GROUP 301 #9071454 待售

EVG/EV GROUP 301是一种高品质的光刻胶设备，设计成精确的图桉薄膜结构。光阻系统被用于半导体器件结构、微机电系统（MEMS）、微光电系统（MOEMS）等一系列应用中。EVG 301设计用于涂层、曝光、开发等多种处理步骤。该系统具有两个对准系统，以确保光刻胶的精确定位。第一个单元是5轴自动对齐器，具有可调的场大小和舞台速度。这台机器提供了广泛的对齐功能，包括模式匹配、全模具识别和过程控制。第二个工具是精密显微镜对准，提供精确的定位调整和分辨率高达10毫米。该资产配备了高性能曝光模型，用于常规和离轴照明的高容量成像。它提供两种可互换的照明模式，用于纺纱和批量曝光的闪光模式，以及用于旅行和专业曝光的转换模式。设备还提供静态和动态曝光过程控制，允许用户轻松调整曝光，以符合每个应用的确切要求。该系统具有高分辨率的掩模模式识别单元，旨在自动检测和纠正掩模不对齐和不正确的曝光。这保证了每一层的光刻胶都被精确地曝光和图桉化。该机还配备了高精度自旋显影剂，旨在确保光刻胶的均匀自旋涂层。该工具可以通过附加附件进行扩展，包括高级向量生成软件、3D自动聚焦资产和微点X-Y阶段。总体而言，EV GROUP 301是一款用途广泛、可靠的光刻胶型号，适用于广泛的应用。该设备提供精确对准、高性能曝光系统和掩模模式识别,确保每个应用程序均具有高质量和精确曝光的光刻胶。该系统还为用户提供了额外的配件，以增加便利和灵活性。