二手 EVG / EV GROUP 301 #9284544 待售

EVG/EV GROUP 301光刻设备是一种先进的全自动光刻系统,旨在在各种基板上创建横向图桉。该单元用于各个行业，如微电子、MEMS、半导体制造等。这台机器的主要部件包括步进/扫描仪、真空卡盘、晶圆处理和开发站。步进/扫描仪控制从标线到晶片的模式传输。此步进/扫描仪具有较大的视场,可实现最大的模式精度和吞吐量。真空卡盘确保晶片牢固地固定在刀具上，以实现高精度的光刻。晶圆处理模块由一个集成的曝光室、盒式装载机和预对准器组成，以及一个用于保持恒温的多鼻换热器。开发站用于开发光刻胶。它包含一个显影罐、冲洗罐和两个不同光刻剂的化学分配系统。显影剂模块还包含一个紫外线模块，用于在显影之前固化和检查光刻胶。资产还具有灵活的模块化设计,允许用户根据其精确的应用程序要求自定义模型。EVG 301光阻设备还配备了最先进的光学设备,可实现高分辨率成像。这个系统可以精确再现特征小至0.5 µm的图桉。该单元也非常快速和准确，吞吐量高达1000晶圆/小时。这台机器使用简单,可靠性很高.它采用直观的用户界面设计，便于使用。此外,该工具还有出色的售后支持和客户服务支持。该资产还附带了一个高级软件包，允许用户开发自己的工艺配方，并最大限度地提高其光刻效果。总之，EV GROUP 301光刻剂模型是一种高度可靠和用户友好的设备，旨在帮助用户实现高度精确的光刻结果。该系统具有先进的光学设备、快速的吞吐量和强大的开发支持,允许用户根据其独特的应用程序要求自定义设备。