二手 EVG / EV GROUP 301 #9358755 待售

EVG/EV GROUP 301是一种光敏处理设备，用于多种应用。它能够对准和打印光掩模和晶片的掩模,以及执行基板沉积、干式和湿式蚀刻过程、开发过程以及许多其他模式复制过程。该系统非常适合研发项目。EVG 301配备了先进的图样装置，便于精确对准和精确打印光掩模，并配有快速加载机制，以减少基板和掩模的闲置时间。机器的晶片对准过程通过其单独控制的压电元件实现自动化，进一步缩短了制图时间，提高了精度。该工具采用模块化平台设计,便于定制,以满足各种应用程序的需求。基板持有台一次最多可容纳30个基板，资产最高可达到200 °C的温度。该模型还具有符合人体工程学的升降机设备，便于基板的进入和移除。该系统还提供了高级掩码制作过程。它配备了200纳米扫描场光学单元，以及用于调节基板和掩模之间接触点受力的曝光控制。该机还能够涂覆面膜-抛光和精加工的能力，这有助于减少涂层时间和最小化排便。综上所述，EV GROUP 301是一款用途广泛、可靠的光刻胶加工工具，具有缩短基板和掩模加工时间的特点。它非常适合先进的图样和成像技术的研发。