二手 EVG / EV GROUP 8002 #9384858 待售

EVG/EV GROUP 8002是一种适合于各种应用的光敏设备。该系统具有光刻平台,非常适合中小型应用,并具有集成的6轴机器人,专为微电子单元制造过程而设计。该机器还能够将其组件与5微米的精度对齐，使其成为一种用于各种过程的有用工具。EVG 8002的光刻由两个主要组成部分组成：激光干涉管（LIF）和宽带采购对准（BBSA）。LIF用于以1微米的分辨率精确测量位置公差。此方面非常适合确保在对齐和重新定位操作期间精确放置元件。另一方面，BBSA是光刻步骤中使用的主要辐射源。它可以发射波长在300至1400纳米之间的光，并提供必要的能量，使感光部分暴露于所需的辐射水平。在设备方面，EV GROUP 8002附有一系列为满足您的特定应用而设计的套件。这包括晶圆传输模块、基板支架和掩模板支架。此外,该工具还提供了适合您应用的各种光学器件,包括各种透镜、反射器和冷凝器,以及可选的附件（如中性密度滤镜）。8002的核心是自动化的6轴机器人，它可以精确、可重复地定位掩模板和晶片。该机器人还可以自动跟踪遮罩板和晶片的运动，跟踪相对于基板支架的位置公差和曝光时间，从而实现更高的放置精度和最小漂移。还可以回收以前的曝光设置,以便在以后的生产批次中使用,以确保过程随时间的推移保持一致。性能方面，EVG/EV GROUP 8002最小步长为0.1微米，可重复性为5微米，无论温度波动如何。这种精确度可以提供卓越的精确度和可重复性,使其成为严格公差应用的绝佳解决方桉。该资产的运行周期为15秒,最大吞吐量为每小时10个零件,非常适合中小型生产需求。综上所述，EVG 8002是一种强大的光刻模型，能够精确对准和曝光分辨率为5微米的零件。集成的6轴机器人使得精确跟踪掩模板和晶片的运动成为可能，而广泛的光学选择提供了自定义兼容性。这种功能的组合为EVG提供了一系列应用程序所必需的灵活性,使其成为大多数制造过程的绝佳工具。