二手 FISA CC20/40 #9395454 待售

FISA CC20/40是一种钴基光致抗蚀剂设备，专门用于光刻和干膜工艺。这种光刻胶系统与市面上的其他光刻胶相比，允许了非常高的分辨率和改进的分辨率特性。光致抗蚀剂单元的高分辨率是其独特特性的结果。FISA CC20/40光刻机的核心是钴基辐射敏感化合物，设计为对270至460纳米之间的光波敏感。这个波长范围被发现允许更精确，高分辨率的光刻过程。钴基化合物还可以改善光稳定性和比其他光刻胶系统更快的开发时间。光致抗蚀剂工具也是由液体显影剂配制而成，液体显影剂包含了专门设计用于改善资源开发和性能的酸和络合剂的组合。这种显影剂的设计更容易从基板上去除暴露的光刻胶，产生更高分辨率的图样。开发商还帮助减少环境和健康危害，因为它是无毒和水基的。光刻胶资产还采用低温固化工艺设计，这样就可以生产出更坚固的薄膜，而不需要某些光刻胶所需的昂贵蚀刻和图样转移步骤。低温固化还具有降低光刻胶模型对热冲击敏感性的额外优点，并能实现非常精确的图样转移到基板中。最后，对光刻设备进行了优化的回流曲线设计，这是光刻工艺成功的一个重要特点。回流曲线是根据具体应用量身定制的，有助于确保一致的线缘和图桉保真度。通过将其钴基辐射敏感化合物的独特特性、优化的液体显影剂、低温固化工艺以及精炼的回流曲线相结合，FISA CC20/40光刻胶系统与市场上其他光刻胶系统相比提供了优越的分辨率、更大的光稳定性、更低的成本以及环境和健康效益。这使得FISA CC20/40光致抗蚀剂单元成为光刻和干燥膜工艺的绝佳选择。