二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Excalibur #293642294 待售

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Excalibur Photoresist设备是一种高性能的自动化光刻解决方桉,旨在解决利用光刻技术制造100纳米以下材料的难题。它旨在提供精确、高吞吐量和低成本的处理,并适应各种复杂的应用,包括WLCSP、光子WaveGuide、SiGN光伏电池阵列和MEMS工艺。FSI Excalibur Photoresist system是基于FSI开发的一种专有光刻技术，具有针对错综复杂的图桉的专利微调光阻单元。TEL Excalibur机建立在模块化平台上，旨在实现高精度、可靠性和可重复性。该工具采用高功率光源（HPLS）,使资产能够以高达25-100 nm的精度将光聚焦在基板上,从而获得更快、更准确的结果。光源具有多波长能力，允许用户在不同波长波段之间切换，以达到最佳模式。该模型还采用了先进的CCD摄像机，能够检测和分析快速移动的目标，能够高精度跟踪粒子和球。这样就可以以每小时200晶圆的有效吞吐量实现高达20纳米的分辨率和精度。TOKYO ELECTRON EXCALIBUR Photoresist设备利用了一个高效的清洁站，该清洁站专门设计用于清除晶圆中不需要的颗粒和污染物。这种清洁工艺对于确保光刻工艺和最终所需产品的成功至关重要。该系统专为多功能应用而设计，其模块化架构允许升级和增强。它配备了一系列复杂的软件工具和功能,如配置文件优化工具、自动预后优化、对齐功能、迭加和残留保真度分析工具,以及有助于优化性能的缺陷检测算法。Excalibur Photoresist单元被用于高精度光刻和先进的微结构，包括导电聚合物、玻璃、III-V化合物和陶瓷等多种材料。它也可以用于无掩模光刻，在基板水平上实现通用操作。这台机器以其高精度和可重复性而闻名，能够处理各种各样的基材和生产量。