二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON HELIOS 52 #187971 待售

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON HELIOS 52是一种光刻工艺控制设备，设计用于半导体晶圆光刻。该系统能够精确测量抗蚀膜的反射率和其他抗蚀性特性，以确保抗蚀性图样能够在微加工过程的进一步阶段准确再现。它是一个自动化单元，能够实时监测晶圆反射率和其他抵抗特性，实现跨流程的可重复性和精确度。该机由一台10 X显微镜组成，配有聚焦步进机构、Galvo Stage和感官晶圆。显微镜用于测量抗蚀膜的光学反射率，使该工具能够识别和补偿任何不规则性。Galvo Stage允许在晶圆上测量多个点，提供一种无偏差的方法来寻找模式的最佳中心。感觉晶片覆盖有防反射涂层，确保结果尽可能精确。资产包含一个数据采集模型，设计用于存储、分析和报告过程中收集的数据。这使设备能够将每个流程的结果与预定值进行比较,并根据需要调整流程以进一步优化。该系统还允许过程调整的自动化，允许单元快速调整以适应各种过程条件。此外,计算机允许远程访问,允许远程诊断和故障排除。此外,FSI HELIOS 52工具还具有高级软件界面。此接口允许轻松设置和控制光刻过程,从而简化了原本可能是复杂的任务。软件还包括一个图形用户界面，使用户能够以视觉方式查看过程和结果。这使得用户更容易快速准确地监控进度和发现任何问题。总体而言，TEL HELIOS 52光阻资产是一种先进的工艺控制模型，能够快速、准确地测量抗性特性。其先进的软件界面为光刻工艺提供了方便的设置和控制，确保了结果的精确和可重复。利用其数据采集和远程访问功能,可以快速、准确地进行调整和监控流程的进度。