二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON HELIOS 52 #9160994 待售

FSI HELIOS 52是设计用于生产先进电路板、半导体晶片和其他电子元件的光阻设备。该系统使用一种特殊的化合物在半导体材料上蚀刻图样，如硅和砷化铵。它产生令人难以置信的精确蚀刻,允许产生高分辨率图像。该单元的工作原理是在半导体表面上创建基础聚合物膜涂层，然后将其暴露于激光或闪光灯发出的光束中。当光通过对紫外线敏感的聚合物时，它将图像的图样转置到聚合物表面上。一旦曝光，光刻机中的化学反应化合物将所需的图像蚀刻到半导体材料上。HELIOS 52光刻工具有几个优点。它的体积小,为需要移动操作的应用程序提供了方便和可移植性。它也不需要额外的电源，因为发出的紫外线是在资产本身内产生的。此外,光源是可回收的,因此不需要额外的材料来进行蚀刻过程。最后，它的低维护设计使其使用和维护变得简单。FSI HELIOS 52还集成了高级功能,以提高准确性和可重复性。先进的相机视觉校准功能使用户能够精确地调整曝光辐照度和剂量。该模型能够生成分辨率范围为0.6至20 μ m的图像,非常适合任何需要在蚀刻图样中提供高细节的应用。最后,可以对设备进行编程,以一次蚀刻多个图像,使其效率和效率极高。总体而言,HELIOS 52非常适合那些在电子应用中需要高分辨率蚀刻模式的用户。它体积小、操作简单、图像质量高,对于任何希望升级其制造能力的人来说,都是一个绝佳的选择。