二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON K131 #9244159 待售

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON K131 Photoresist Equipment是由FSI International, Inc.和TEL Limited（TOKYO ELECTRON）创建的紧凑、易于使用的半导体样品处理系统。该单元旨在为半导体行业的数以千计的小型MEMS、GaAs和半导体制造商提供专业水平的湿蚀刻能力。这台机器包括一台集成式输送机，用于在晶片上应用光刻胶溶液，用于精确深度蚀刻的集成精密运动控制，以及用于去除光刻胶残留物的集成清洁能力。它还提供卓越的吞吐量和卓越的均匀性，这是半导体制造的一个重要特点。FSI K131 Photoresist Tool使用行业标准的PCB处理技术,如旋转涂层、光刻、光刻剥离和浸涂,以便在晶片上产生所需的蚀刻结果。它使用传统的基于墨盒的输送资产向晶片分配预定数量的光刻胶溶液。使用自旋涂层，光刻胶可以在精确的设置下应用，以达到最大的均匀性。然后使用光刻技术在晶片上绘制光刻胶图样，使其能够蚀刻成所需的设计。利用集成的精密运动控制模型，TEL K131光刻设备能够实现晶片上精确的蚀刻深度。这种先进的蚀刻控制技术确保了蚀刻复杂特征时的最高精度、可靠性和可重复性。该系统还具有高级清洁功能，具有高压和低压喷雾器，确保除去光刻胶中的所有残留物。TOKYO ELECTRON K131 Photoresist Unit以小巧、低成本的包装提供高性能和优异的产量。它直观的操作和易于使用的界面使其成为中小型半导体制造商的理想选择,这些制造商需要以经济实惠的价格提供专业级别的湿蚀刻功能。该机器具有出色的吞吐量,每分钟可产生三个晶圆,可重复、均匀的结果。K131光致抗蚀剂工具是任何小型半导体制造商寻求提高样品工艺质量和生产率的必不可少的工具。