二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9090432 待售

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON MERCURY MP光致抗蚀剂设备是一种高速物理气相沉积（PVD）系统，用于半导体晶片或其他材料表面的光致抗蚀剂层沉积在集成电路的製造中。该单元包括一个Mercuryｮ MP PVD处理器和一个基于微处理器的控制器，它允许光刻胶的快速和精确的沉积。该机设有特殊的高速雾化工艺和特殊的气体雾化喷嘴，可产生极细的光敏材料喷雾。喷嘴能够控制雾化颗粒的大小，并提供一致的粒径分布。此外，该工具的调谐时间快，沉积均匀性提高，非常适合大批量生产。FSI Mercury MP Photoresist Asset还通过允许不同工艺应用的多种配方，允许调整参数，根据具体需要优化沉积层，提供灵活性和增强工艺控制。该模型能够生产高质量的光敏薄层，能够以不同厚度沉积材料，均匀性良好。该设备可实现高达1微米/秒的快速沉积速率，这比传统的抗蚀剂工艺快得多。TEL Mercury MP Photoresist系统可以与蚀刻、清洁等其他工艺集成，允许在大批量生产中快速高效地生产半导体器件。该装置有一个集成真空机器，能够提供高真空条件，这是最佳的光敏沉积所必需的。该工具还包括一个特殊的喷嘴，其设计确保了整个沉积过程中的最佳粒径和均匀性。此外，它还提供了一种自动过程控制资产，可以根据客户的要求进行定制。此外，TOKYO ELECTRON MERCURY MP Photoresist Model被设计为高度可靠，并提供长寿命周期。此设备非常适合批处理和串联处理。它还为各种应用提供了卓越的电阻率,包括图像反转和图像增强。此外，该系统易于使用，可用于溅射、喷雾热解和化学气相沉积等多种系统。总之，MercuryMP光致抗蚀剂是半导体器件制造的绝佳选择，因为它具有快速的沉积速率和改进的工艺控制。