二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9102507 待售

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ID: 9102507
晶圆大小: 6"
优质的: 1992
Spray processor, 6" Upgradeable to 8" Process: Preclean Chemicals: H2SO4, H2O2, NH4OH, HCl, HF, DI-H2O, N2 Software Rev.: 11.000 220V, 20A, 1 phase, 50/60Hz 1992 vintage.
FSI MERCURY MP是半导体制造商在集成电路生产中使用的领先光刻设备。光致抗蚀剂是一种应用于半导体基板的不透明物质,用作防止或减少离子和其他粒子进入基板的保护性涂层。当一束紫外线施加到光刻胶上时,在光刻胶所含的分子中发生化学变化,使其不稳定,容易从底物中去除。这一过程被称为光刻,用于集成电路的生产。光刻是半导体制造过程中的一个步骤,在此过程中电路的图样被转移到半导体基板上。这一过程通常涉及应用光敏溶液,然后暴露于紫外线辐射。MERCURY MP是一种高效的光刻系统,用于光刻工艺。该单元包括一个功能强大的电光模块,提供高紫外线功率和高紫外线暴露区域,长寿命超过10000小时。其先进的步进控制模块还提供了高精度和快速的响应时间。FSI MERCURY MP光刻机产生高精度、特征区较大的图样,为高品质IC的生产提供了高热稳定性的提高的捕集和解困能力。MERCURY MP还包括特殊的光刻胶制剂,以提高成像和蚀刻工艺的产率。此外,其先进的步进控制模块允许精确对准和定位的光刻胶。总体而言,FSI MERCURY MP是一种高效的光致抗蚀剂工具,可提供更高的热稳定性、精确的图样和更好的工艺产量。其先进的电光模块有助于确保最高质量的IC。其步进控制模块提高了光刻工艺的精确度,而其光刻胶配方有助于改善成像和蚀刻工艺。所有这些特性使得MERCURY MP成为半导体制造商理想的光刻资产。
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