二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9122700 待售

FSI MERCURY MP是一种高度先进的光刻设备,旨在提供光刻工艺方面的优异效果。专为微机电系统（MEMS）和微电路应用量身定制。通过高效的薄膜涂层和曝光工艺，液膜和干膜光刻胶的理想特性的共生组合使系统能够为微电子系统和微电路应用提供最先进的产品性能。MERCURY MP光致抗蚀剂单元采用独特的液体抗蚀剂和干性抗蚀剂组合，提供卓越的分辨率、附着力和耐蚀刻性。将液体抗蚀剂涂在基材上，然后用紫外线干燥。这提供了一个与典型的液体光刻胶相比，具有良好的特征定义和明显较低的底切的统一、清晰的图样。抗蚀剂图样通过暴露在紫外线下转移到底层。曝光过程激活了一种高效的光化学，它烧蚀了未受保护的表面积，并提供了一个锐利、清晰的线条模式。然后将干性抗蚀剂涂在裸露的液体抗蚀剂层上。它提供额外的蚀刻阻力，允许更好的尺寸控制。干性抗蚀剂还具有额外的层附着力，有助于抗蚀剂堆栈的整体附着力。FSI MERCURY MP利用液膜和干膜光刻胶的组合,为客户提供了一种既可提高分辨率又可提高耐蚀刻性能的解决方桉。MERCURY MP机具有高效的薄膜涂层和曝光过程，为MEMS和微电路应用量身定制。它利用获得专利的高度连贯的产品和技术来确保低污染和无图像失真的最佳结果。高效的曝光过程允许充分利用基板膨胀受控的表面积，从而改善线宽和临界尺寸控制。曝光过程针对一系列材料进行了优化，包括硅、硅胶和其他材料。FSI MERCURY MP工具提供了多种标准光刻胶格式,使客户能够根据其应用需求获得最佳性能。从大面积的应用到详细的设备制造，资产被设计为提供性能和可靠性。MERCURY MP具有简单的用户界面和可靠的工艺流程,是MEMS和微电路生产的理想型号选择,提供了质量、可靠性和成本效益。