二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9228777 待售

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury MP光致抗蚀剂设备是一种高度自动化和集成的系统,旨在在开发、光刻和计量过程中精确处理光致抗蚀剂层。光致抗蚀剂是一种光敏薄的聚合物薄膜，用于光刻，在基板表面形成微结构。该装置的样条驱动级采用线性电动机，采用专利的伺服驱动插值技术，在表面配准、光线照射和开发后清洁过程中保持精确准确的位置精度。该机配备了宽广、平行的舞台，允许大尺寸的光掩模，提供单次曝光的最高分辨率。其先进的曝光技术使扫描曝光模式如对角线和弧线能够进行高精度蚀刻和模式传递精度。它通过半导体激光器实现的精确曝光调制，允许具有精确音高控制的抗蚀性像素的高度精确曝光。除了其暴露能力外，FSI Mercury MP还提供了全系列的计量工具，用于精确的基板分析和晶圆检查。其计量工具使用激光干涉显微镜、共聚焦显微镜和伪原子力测量，精确测量和检测临界尺寸、图桉位置和形状以及器件特性。SkyScan高分辨率检查工具用于检测高分辨率、精确度和准确性的高频特性。凤凰口罩用于验证高分辨率抗蚀剂特征的图样形状精度。数据采集和分析软件工具可用于进一步分析所收集的数据。该资产还提供过程模拟模型，在将抗蚀剂提交光刻之前预测图样尺寸值。内置的流程配方库包含大量的光刻工艺和配方列表，以帮助简化操作并确保可重复性。该模型具有温度控制室，以支持空气温度控制蚀刻过程。TEL Mercury MP光刻设备为快速、准确和可重现的光刻和成像结果提供了完整的平台。该系统的高分辨率和精确度、最先进的计量和检验解决方桉,以及广泛的配方库,使其成为从半导体器件制造到微流体等一系列应用的理想选择。