二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9250089 待售

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury MP光刻设备是一种光刻系统，设计用于制造集成电路和微结构。它是基于一个扫描的激光暴露的抗性涂层底物，然后用化学工艺开发出来。FSI水星MP单元的波长为248nm，数值孔径为0.3。它能够自动检测和调整激光束的形状和位置，以确保在基板上产生准确的图样。该谐振器的设计旨在进一步提高图像的吞吐量和质量，而RLS（Reticle Level Control）机器则确保精确的迭加对准。该系统包括一个先进的成像和光掩码工具,能够提供低至28nm的图样图像。资产由两个光掩码组成，一个用于主体图桉，一个用于接触图桉。光掩模由气隙成像软件支持,该软件允许复杂的掩模迭加对准和光刻胶工艺优化。该模型可用于各种光刻工艺，包括自旋涂层、接触和投影印刷，以及纳米尺度的曝光。它是为广泛的晶圆尺寸而设计的，直径从4英寸到8英寸不等。此外,设备的内置温度控制单元可确保卓越的工艺稳定性。TEL Mercury MP系统提供卓越的成像能力和严密的工艺控制，并提供出色的光阻均匀性。它还允许快速成像和过程周转时间,降低阵列制作成本,并最大限度地减少零件返工,这使得它成为高速、精确成像和高效过程控制至关重要的应用程序的理想选择。