二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury OC #190491 待售

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ID: 190491
晶圆大小: 8"
Semi-Auto Batch Spray System, 8" Specifications: Maxiumum wafer size: 200mm (25 wafer carrier) Maximum motor speed: 1000 RPM Canister volume: 14.5 liters Mercury Process Console Mercury Turntable Mercury Touchscreen Chemistry setup: a) Ammonium Hydroxide b) Hydrogen Peroxide c) Sulfuric Acid d) Hydrofluoric Acid (HF) Operations and Maintenance Manuals (full set) Power: 115VAC, 15 Amps, 1PH, 60Hz.
FSI Mercury OC是半导体工业中使用的一种光致抗蚀剂系统,用于在硅晶片上沉积薄膜,并用硅和其他材料制造复杂的结构。该系统使用基于汞的光源(OC)在光刻过程中对光刻层进行曝光,以产生所需的图桉和结构,并采用先进的光学器件和软件进行设计,以实现精确的控制和准确的结果。光刻过程需要在主轴上旋转涂有光致抗蚀剂材料的晶片,并将抗蚀剂层以定义的图样形状暴露在光源中。水星OC的特点是对光源的精确控制,通过其独特的光学和软件实现。这样就可以在前所未有的精度和稳定性水平上形成小于1微米的特征大小。FSI Mercury OC的另一个关键特征是它的高分辨率成像,利用低光强度和高孔径视野来实现。这样可以对许多不同级别的阵列几何和结构进行成像,包括小至0.2微米的特征。此外,它的光学器件设计用于最大程度地减少线条放置误差、阵列移位和重迭形式的阵列失真。水星OC是一个独立的光刻系统,用户可以根据需要调整参数。这包括曝光时间、激光功率、聚焦位置和光束倾斜,可以为任何几何的阵列进行修改。FSI Mercury OC是对硅和其他材料进行高精度和可靠性制图的最佳选择。它提供了高度的控制,允许用户准确实现所需的功能。它的高分辨率成像、低光强度和纳米图案功能使用户能够产生错综复杂的图样和结构,从而产生尖端的高端半导体技术。
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