二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury #9073573 待售

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ID: 9073573
晶圆大小: 6" - 8"
Spray processor (6) Cassettes for 6" wafers (4) Cassettes for 8" wafers PLC Controller 15" Touchscreen LCD display PFA High purity pneumatic operated valve No metal contamination In line ultrapure DI water heater Canister console Recirculation tank for HF / BOE Chamber temperature measurement (52) Modernized helios: Communication compatible with FSI Mercury over RS232 RJ45 Ethernet communication Modern and reliable SSR relay Touch screen display operation Intuitive user interface Auto adaptive temperature regulation High reliability Events archive Modernized safety features Remote control and supervision Process availability: B Clean C Clean RCA Clean SC1 Clean SC2 Clean Oxide etch Ozone clean Piranha clean Rise and dry Canister configuration: 1st canister console: H2SO4, HCl, DHF canisters 2nd canister console: H2O2, NH4OH canisters Flow meter configuration: H2SO4 - 200 - 2000 sccm HCl - 30 - 400 sccm DHF - 200 - 2000 sccm H2O2 - 30 - 400 sccm NH4OH - 30 - 400 sccm Dual exhaust configuration: (2) Drain PFA 6" / (6) Position turntable included Control system with HMI Valves and PFA lines in process console Not included: Filter cartridges Controller with HMI interface.
FSI MERCURY是一种光致抗蚀剂设备,设计用于对微电子工业中常用的硅晶片上的微观和纳米级特征进行精确蚀刻。光致抗蚀剂技术包括将一种称为光致抗蚀剂的感光膜暴露在精确的光源图样上,以便在光刻制造过程中在半导体基板上创建精确的图样或特征。MERCURY是FSI产品线的补充,旨在使生产比其他FSI产品更先进和复杂的特性。该系统采用直接激光图样,其聚焦尺寸小于10 μ m,以便创建精度高达0.1 μ m的图样,在蚀刻复杂的微观和纳米级图样时提供卓越的分辨率。该装置有一个独特的化学机器,与其他光刻产品相比,能够更快地蚀刻时间-减少与电子束阵列相关的时间和成本。这种化学工具结合了较高的分辨率,也意味着在不出现边缘过冲的情况下可以产生狭窄的线条,这意味着制图过程极其精确,缺陷最小。FSI MERCURY资产还具有低吸水性和优良的保质期,暴露范围广泛。该模型还与包括臭氧和等离子体处理在内的多个互补过程配合使用,这有助于优化抗蚀剂和TKW(热酮水溶性)层之间的选择性。设备也非常可靠,记录的停机时间最短,这意味着生产过程一致且高效。总体而言,MERCURY是一种先进的光致抗蚀剂产品,能够以更高的精度和分辨率对微观和纳米级图样进行蚀刻。由于系统先进的化工单元,蚀刻工艺缩短,产品具有优良的存储性能和最小的停机时间,非常适合微电子行业使用。
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