二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Polaris 2000 #9278707 待售

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Polaris 2000是一种光阻设备，设计用于支持各种设备的制造。该系统使用一种液体化合物，称为光致抗蚀剂，当用光照射时会发生反应。光有选择地暴露光刻胶材料，允许使用计算机控制的光束完成光刻胶层的图桉。FSI Polaris 2000是一种紫外线曝光工具，在精度上适合于多种设计的生产。这种装置是制造任何种类的微电子器件的理想选择，具有光刻性能，紫外线激光输出高达300 mW/cm ²。该工具配备了先进的控制能力，包括真正的二维内部晶片级、z级、旋转级、自动曝光或手动曝光以及湿度控制单元。该机还配备了多种自动化过程控制功能，包括暗场工具、各种聚焦开发技术、薄膜厚度控制和增强过程控制。TEL Polaris 2000也可以用作步进工具，在使用这种光刻胶加法开发模式时提供灵活性。此资产允许使用单个掩蔽晶片生成多个阵列,以及对各种基材和设备几何形状进行精确阵列化。刀具的内置自动对齐功能允许在单个晶片上实现更高的精度和多层对齐。在维护光刻胶模型的最佳工作条件方面,Polaris 2000提供了一系列环境控制功能。该设备有一个内置的湿度和温度控制过滤系统，以及一个内置的隔振台，减少外部条件对过程的影响。为了最大限度地提高光刻胶开发过程的可靠性，TOKYO ELECTRON Polaris 2000还配备了恒定输出功率监控单元，以及内置的焦比监控机。最后，来自FSI的FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Polaris 2000是一种先进的光刻工具，旨在支持各种设备的制造。该资产配备了先进的控制能力，以实现多用途光刻性能，同时还具有充分的环境控制功能，以达到最佳工作条件。该模型可作为步进工具，在开发图样时提供灵活性和精确度，是任何一种微电子器件的理想选择。