二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3 #9181244 待售
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ID: 9181244
晶圆大小: 12"
Spray cleaning systems, 12"
Canister consoles:
(6) Canisters, PTFE neck, No DVs
(2) 4-Position PVC-C consoles
Burst element caps
H2S04 Aspirator kit, 1/4"
(6) MYKROLIS Filters, QCDZ30P3F
(2) Chemical samplings / Shutoff boxes
MYKROLIS Filter WDFVATX2F
(2) CC Drip-trays
(5) 3/8" and (1) 1/2" CC Tubing, 10m
MHM:
STABULI TX90cr Cassette handler
Powder coated facade assembly
(4) PFA/Ti Wafer carriers, 12", 25-slots
(4) ASYST Load ports
0.07 Micron PTFE ULPA filters
BROOKS Wafer handler and controller
Fluid delivery module (PVC-C):
(5) 30-300cc Flow meters and operators
500-900cc Flow meter and operator
TREBOR 480V, 60kW Quartz DI heater
Process module:
HALAR cabinet
5-Port side bowl spray posts
(3) PTFE Drain valves
(3) PFA P-Traps
2-Position 12" PFA turntable
6-Valve chemical mixing block
Turntable hoist assy
Hot and cold rotary union
(2) Processes and cabinet exhaust damper
IR Heater with bypass
ViPR Hardware included
Operation and maintenance manuals
Digital versions
2008-2009 vintage.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3是一种光刻设备，专为精密和可重复光刻而设计，用于需要微电子、生物医学和光学制造精细细节的应用。该系统配备了步进、扫描和翻转芯片对准功能等先进的光刻能力，并采用了最新的电解质技术。FSI Zeta 300 G3是一个先进的i-line单元，使用户能够制造各种模式布局，减少了工艺时间，并取得了突出的效果。TEL Zeta 300 G3光刻机结合高速成像处理和独特的先进光刻技术，提供高清图像而不失真。它提供了最佳的成像过程和高分辨率的阵列处理功能,可产生小型结构,如100 nm以下的线条和空间。它还具有步进、扫描和翻转芯片对准功能，可精确放置在生产基板上。TOKYO ELECTRON ZETA 300 G3利用电解质溶液从抗蚀剂膜中去除污染，然后将抗蚀剂溶液应用到基板表面。这样可确保最高级别的失真控制,并消除对多次刀路的需要。还将粘合剂应用于基板表面，以改善光刻效果，减少加工时间。该工具还配备了可变对焦镜头，可以调整对焦，以提高图像的分辨率和对比度。此外，Zeta 300 G3还配备了一个源调谐部分，可以让用户调整曝光源的强度和分辨率。此功能使用户能够微调曝光剂量,而不会改变抗蚀剂处理条件。再者，可以配置FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3，使其自动校准至使用者的特定特性。总体而言，FSI Zeta 300 G3是一种具有许多先进功能的光刻资产，包括步进、扫描和翻转芯片对准功能。它还有一个独特的电解质溶液，以确保最高水平的失真控制，以及可变聚焦镜头和源调谐部分，以最大的精度图像。因此，TEL Zeta 300 G3是任何微电子、生物医学或光学制造的完美工具，需要精确的阵列。
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