二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Zeta 300 #9140979 待售

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ID: 9140979
晶圆大小: 12"
Spray cleaning systems, 12" Process: PLAD strip/ CLN 2009-2010 vintage.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 300 Photoresist Equipment是一种高精度的抗蚀剂蚀刻系统,可以产生精确的图样来製造複杂的光掩模。该单元配备了先进的控制机器,可以控制蚀刻过程的每个步骤,从样品制备到面膜的最终处置。它有一个强大的抗蚀剂,它使用撞击射流均匀地在基板表面散布光致抗蚀剂。它还有一个增量曝光控制工具,允许基板可重复暴露于各种波长的光,以确保精确的图桉。资产还具有集成的图像分析仪,可以测量蚀刻在基板上的图桉的大小、形状和边界。这样可以精确控制蚀刻过程,为最终的光掩模产生精确的图样。该模型可分别通过使用正抗喷雾剂和负抗喷雾剂蚀刻正负抗蚀剂。此外,设备还可应用多种蚀刻后处理,如大衣、灰泥、烘烤等,以改善基材的生命周期和稳定性。FSI Zeta 300光刻胶系统由于精度和精确度高,设计用于半导体工业。其卓越的性能和广泛的特性使得它非常适合生产具有精确定义的特征和形状的光掩模。该单元还具有较高的吞吐量,允许更快地生产光掩模。此外,它的化学相容性允许广泛的光敏材料使用。此外,它的用户友好界面使机器易于安装和操作,而且高度自动化使操作员更容易一致地生成可重复的高精度模式。
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