二手 FU SHENG FR100APII #9247060 待售

FU SHENG FR100APII是利用全息技术进行激光写入和记录的先进光刻设备。该系统为有机层的成像、对准和充电提供精确的亚微米分辨率,并且能够产生具有较高线宽和长宽比的图样。该单元由荧光层写入/充电子系统（FLW/CS）和激光曝光子系统（LES）两个子系统组成。FLW/CS使用激光束为光刻过程中使用的有机层充电。利用专门设计的数字扫描机和波动能量检测器，对整个充电过程进行精确控制。LES使用三种类型的干涉滤波激光器--UV、HeNe和KrF--将光刻胶暴露在光辐射下，使其在暴露时变硬。激光被设计成产生低脉冲速率和非常小的光斑大小。FR100APT工具还具有自动晶片或基板加载和传输资产以及用于创建多个模式字段的自动索引多场步进器（AIMFS）。这对于需要大量阶段和高精度的芯片设计极为有用。该模型的光学设备配备了高功率目标，以提高书写和模式创建过程的准确性。该系统还设有一个数字成像装置，使用户能够监测光刻胶并对曝光参数进行任何必要的调整。FR100APT最多可以存储30个程序，这些程序通常与需要重复的特定光刻过程有关。这样可以节省时间和精力，因为用户只需要输入一次相关参数，而不是在每次需要重复过程时重新输入它们。因此，复杂的光刻胶工艺比以往任何时候都以更快的速度和更精确的方式进行管理。总体而言，FR100APII光刻机利用尖端技术，以较高的线宽和长宽比制作精密的亚微米图桉和图像。它是光刻工业中的一个宝贵工具，使用户能够以快速和准确的方式创建多种复杂的模式。