二手 GCA / TROPEL Wafertrac 1006 #171562 待售

GCA/TROPEL Wafertrac 1006是一种光阻设备，设计用于提供半导体晶片的精确对准和处理。该系统特别擅长处理大型基板，具有多种特点，使其成为市场上最可靠可靠的系统之一。该单元的核心包括一个功能强大的6轴控制器，能够精确对准晶圆和基板，而另外一个ARM伺服放大器则提高了定位过程的精度。这保证了机器可以处理各种各样的基板，包括玻璃、硅和金属。为确保精度，GCA Wafertrac 1006包含一系列定位技术，包括直径补偿和执行器级补偿。这使得工具能够补偿任何尺寸的扭曲和错位，从而使材料的定位更加精确。此外，该资产还具有一种称为"光学掩模"的功能，可提供增强的边缘检测和防止颗粒污染，从而提高输出的整体质量。此外，TROPEL Wafertrac 1006采用高分辨率CCD相机设计，提供精确准确的基板定位。它的高分辨率成像和检查能力还允许精确和精确的光刻胶应用，使其成为近场成像和应用化学和生物制剂的理想选择。Wafeertrac 1006还包括一系列振动控制系统，确保模型稳定、无噪音，并提供出色的重复性。它具有低气流设备，可最大限度地减少颗粒物碎片，并可精确控制光致抗蚀剂材料。此外，1006还包括精确的自动晶片处理，支持多个晶片载体和广泛的机器人。这大大缩短了工艺时间,使其在超高生产环境中非常高效。综上所述，Wafertrac 1006是一种先进的光阻系统，旨在提供半导体晶片的精确对准和处理。该单元擅长处理大型基板，采用多种定位技术，如直径补偿和执行器级补偿。它还包括用于精确光刻应用的高分辨率CCD摄像头，以及用于稳定和可重复过程的振动控制系统阵列。该机还支持多个晶圆载体和广泛的机器人，使其成为超高生产环境的理想工具。