二手 HEADWAY EC 102 #114663 待售

HEADWAY EC 102是一种光刻胶系统，设计用于单层和背靠背双层图样制作过程。它是一种低温固化负性型光抗蚀剂，在金属、介电和有机基板上具有优异的膜形成性能。EC 102特别适用于MEMS应用，在这种应用中，需要比光刻胶和金属具有更高的干燥蚀刻选择性。其发展包括一个光学活性官能团，当暴露于紫外线光源时交联形成聚合物网络。该反应导致在高分辨率蚀刻过程中对高能离子轰击的抵抗力增加。这种光致抗蚀剂系统提供了良好的均匀性和干燥蚀刻选择性在光可定义的有机层。其有机-无机溷合网络是为最小边缘串珠而设计的，具有最小化的背面蚀刻效果，表面附着力极佳。当暴露于高激光辐照度时,该产品在单层图样的极低线宽变化中表现得近乎完美,从而实现了高分辨率的蚀刻效果。其低残留性能最大限度地减少了使用高攻击性清洁剂的需要，使其适合用于敏感电介质的薄层。HEADWAY EC 102可以由广泛的正负开发者开发。从酚醛核壳纳米颗粒到低温聚合，提供了优异的加工性能，可用于多种图样应用。该产品还具有出色的涂层均匀性、一致性和表面平面化。EC 102非常适合光学收发器、液晶显示器和需要非常精确的阵列和表面平面化的微流体芯片等应用。总体而言,HEADWAY EC 102光刻胶系统是一个高度通用且经济高效的过程,可为各种MEMS应用创建大型特征尺寸、薄层和高度精确的结构。它被设计为与介电和有机基板的超热层兼容，与各种正负显影剂结合工作，并具有出色的干蚀选择性和均匀性。