二手 HEADWAY PWM101 #168411 待售

HEADWAY PWM101 Photoresist Equipment是一种UV-light exposure system,专为光刻胶应用的直接成像而设计。该装置配备了车载"直接成像"显微镜，与光刻晶片配合提供增强的图像观察和精确定位。该机器还配备了专利的两轴反射镜偏转工具,可确保精确对准光刻晶片的目标区域。资产的设计还允许用户使用可变光源改变曝光强度，从而能够精确控制光刻胶工艺。该模型配备了精确的双串石英光源，与光刻胶变化的光谱灵敏度相匹配。这种双串石英光源具有一致的光强均匀性和长期的可靠性。光源也被紧紧地安置在一个集成的安全罩和玻璃室中，从而减少了通过设备损失的光量。该系统还包含一个专有的镜面偏转单元，能够将光刻胶材料精确地传递到正确的区域。机器使用沿两轴X-Y方向运行的机械驱动器，允许将光敏材料精确放置在正确的区域。分辨率为1.5 µm，可重复性为0.01 µm，光敏材料的定位精度高、精度高。最后，该工具还有一个计算机控制界面，可以方便的资产设置和操作。软件与模型集成，用于调整光源强度、相机曝光和镜面角度，以达到理想的效果。这使用户能够快速调整并微调光刻胶处理,而无需手动干预或硬件更换。综上所述，PWM101光敏设备是一个高度先进的系统，旨在提供对光敏过程的精确控制。该单元具有长期的可靠性和多功能性，以及可调光源强度、相机曝光和镜面角度。该机器还具有计算机控制界面，使其易于使用，并允许快速高效地调整自定义设置。