二手 HITACHI MA-Ni02 #293662279 待售

HITACHI MA-Ni02是用于集成电路（IC）制造的光阻系统。该系统利用多种技术来实现IC的理想结果。这些技术包括：光致抗蚀剂层暴露于紫外线辐射、蚀刻、层压和溅射。将紫外线辐射施加到光刻石层，用于将所需的图样暴露在硅片上。光致抗蚀剂对特定波长敏感，暴露于辐射后会变得不溶解。图样曝光后,蚀刻过程开始。这包括去除不需要的材料和塑造阵列区域，以便创建一个集成电路。光致抗蚀剂层的层压包括使用薄膜，然后将薄膜铺在裸露和蚀刻的材料上。层压有助于保护IC免受损坏,并防止阵列区域发生任何进一步的变化。溅射是将一层薄薄的氮化物颗粒喷洒到晶圆上的过程。这些颗粒遵守图桉化的区域，形成额外的绝缘层。完成此过程是为了防止在IC上发生任何短路。总体而言，MA-Ni02光致抗蚀剂系统用于通过使光致抗蚀剂层暴露于紫外线辐射、蚀刻图桉化区域、层压层以及溅射一层薄薄的氮化物颗粒来创建集成电路。这些步骤创建了一个可用于创建集成电路的所需模式。