二手 HONGSU BOE #9328964 待售

製造商
HONGSU
模型
BOE
ID: 9328964
晶圆大小: 5"
Photoresist removal system, 5" DI Water: Average flow LPM: 90 Maximum pressure: 2.5 kg/cm² Temperature: RT Resistance Ω: >18 Caliber inch: 11/2" Gases: CDA: Maximum pressure: 7 kg/cm² Minimum flow: 400 Pipe: SUS316 Connector: SWAG Caliber inch: 1/2" N2: Maximum pressure: 7 kg/cm² Minimum flow: 200 Pipe: SUS316 Connector: SWAG Caliber inch: 3/8" Filter: 1um H2SO4: Maximum flow: 5 PFA Pipe Flare connector Caliber: 1/2" H2O2: Maximum flow: 5 PFA Pipe Flare connector Caliber: 1/2" Acid exhaust: Maximum pumping volume CFM: 450 PP Pipe Flange connector Caliber inch: 8" Power supply: Single-phase, 220 V 3-wire, 210 A, 46.2 kVA.
HONGSU BOE是一种光刻设备,用于生产高精度微电子器件。该系统是一种内置防护涂层的自旋光刻材料,在自由形式的微电子环境中提供可靠性和稳定性。它专为满足现代设备设计的要求而设计。光敏材料被旋涂在微电子器件的基板上。然后,敏感材料暴露在紫外线下,有选择地改变暴露材料的性质。一旦创建了所需的图桉,多余的、未修饰的光刻胶就会被移除。这可以通过等离子体蚀刻、湿化学蚀刻或激光加工来完成。京东方是一个完全开发的单元,可以针对光刻胶工艺的各个方面进行定制,包括但不限于利用干膜和/或湿膜技术开发、蚀刻和最后固化的工艺步骤。由此产生的装置能抵抗湿气和环境污染,从而导致光致抗蚀剂装置的降解。这是红苏京东方机器上存在的保护涂层的结果。京东方工具比其他系统更具优势,特别是因为它可以提供更大的稳定性和可靠性。光敏材料的设计是为了在制造过程中保持稳定并保持其完整性,从而减少缺陷,提高设备的可靠性。此外,由于其对齐的感光层和聚焦光源,资产在光刻过程中实现了高度的精度。这样可以确保设备每次都能提供一致的结果。最后,HONGSU BOE模型采用了先进的工具和技术,确保了生产的微电子器件质量最高。旋转晶片级、真空设备、监视器等设备均根据光刻系统的要求进行调谐,使光刻工艺的性能高效准确。这允许为任何给定的应用程序定制可靠的过程,并有助于简化制造过程。总之,京东方是一个全面的光阻单元,提供可靠和一致的结果。它专为微电子器件而设计,具有精密驱动机器和保护涂层。该工具还提供高水平的稳定性和准确性,易于使用和维护。总体而言,HONGSU BOE是复杂、高精度设备设计的理想光刻资产。
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