二手 INTELLIGENT MICRO PATTERNING SF-100 #9390791 待售

ID: 9390791
优质的: 2009
Maskless lithography system Maximum size of substrates: 200 mm x 200 mm Wavelength: 365-578 nm Mercury lamp: 200 W (Resource of work 1000 hours) Minimum element size: Up to 1 µm Grayscale exposure: 768 Levels Vision system: CCD Camera Control: Standard PC, User interface Data format: BMP, DXF Automatic focusing Semi-automatic combination Optics: Standard optics, high resolution optics Backing plate XY-Axis travel: Accuracy: ±200 nm Repeatability: ±50 nm Z-Axis travel: Total travel: 25 mm Accuracy: ±200 nm Repeatability: ±75 nm Theta movement: Rotation: 360° Accuracy: ±5 arc sec Repeatability: ±2 arc sec Vibration protection: Anti-vibration base Vacuum: -0.6 bar Pneumatic supply: 5-6 bar, 0.5 m³/h Power supply: 200 V, 50-60 Hz, 7 kW (Maximum) 2009 vintage.
智能微观图样SF-100智能微观图样设备是一种先进的光刻系统,用于半导体器件制造和微观制造等应用。它利用先进的机器视觉技术,为产品的微型化提供高精度和精确度。SF-100单元采用独特的双曝光技术和明确定义的光源,以实现优异的特征分辨率和均匀性。INTELLIGENT MICRO PATTERNING SF-100具有高精度的光学定位系统,使其能够将光刻胶层与设备基板精确对齐。它还具有自动曝光和开发模块,可确保光刻胶充分曝光。此模块还可以支持高分辨率和中分辨率阵列,从而确保将由于暴露不当而可能出现的任何缺陷降至最低。SF-100还拥有先进的过程控制系统,使光刻胶层能够统一和适当开发。这对于实现高度准确的模式至关重要。该机器还包括一个激光Writehead,它使用不同波长的激光器将图样直接写入光刻胶上。该工具配有高分辨率的光学成像资产,可以由用户确定。它可以用来方便细微的图样与小于5 um的特征.此模型可用于涉及更精细细节的光刻作业,如沟槽、凹槽或凹坑。INTELLIGENT MICRO PATTERNING SF-100 INTELLIGENT MICRO PATTERNING EQUIPMENT在印刷和开发方面提供最大它兼具批量和连续模式操作,以更好地适应高度复杂的作业。它还具有一系列兼容的涂层和光敏材料,以适应不同的设备应用。SF-100系统使用直观的图形用户界面易于操作。它允许用户快速准确地调整单位参数。它还包括多个安全系统,以确保光刻胶和装置基板在整个过程中保持原始状态。INTELLIGENT MICRO PATTERNING SF-100 INTELLIGENT MICRO PATTERNING MACHINE是制造高品质、超精确微模式的宝贵工具。它具有为各种应用(从半导体器件制造到微加工)制作紧密的特征模式的能力。凭借其可靠的操作和精确的结果,SF-100非常适合实现最高的设备精度和重复性。
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