二手 IZOVAC AOC-M #9249484 待售

IZOVAC AOC-M是专为微电子材料的选择性蚀刻而设计的高品质光阻系统。它是微电路制造的行业标准，适用于湿蚀、升空、化学蚀刻、蒸气蚀刻、溅射等多种工艺。该系统采用独特的光敏有机化合物，既用作光刻胶，也用作蚀刻膜。这种组合允许精确和均匀的图样和蚀刻，同时防止不良残留物在晶圆表面上形成。AOC-M由两个组件组成：光阻和蚀刻面膜。光阻剂在暴露于特定波长的辐射之前被涂在基板上。辐射使照片抗性变硬，成为干燥的胶片。这种干燥的薄膜起到遮罩的作用，防止蚀刻进入基材未受保护的区域。蚀刻蒙版应用在光阻层之后。它们通常由有机化合物组成，它对蚀刻溶液产生反应，保护底物免受不利蚀刻影响。在某些情况下，蚀刻面膜还可以促进蚀刻过程，减少循环时间和增加吞吐量。一旦光致抗蚀剂和蚀刻面膜到位，面膜/基板就可以受到特定蚀刻条件的影响。蚀刻剂会与底物未受保护的区域发生反应，而光刻胶和蚀刻面膜会保护所需的区域。这种类似晶格的蚀刻和掩模图样形成了一个图样化的电路层。光刻胶和蚀刻膜的结合使IZOVAC AOC-M成为各种微电子制造任务的理想选择，包括图样制作、选择性蚀刻和工艺控制。该系统具有很高的准确性和可重复性,非常适合设备级别或组件级别的流程。此外，AOC-M的鲁棒性使得它适合广泛的蚀刻化学。最终，IZOVAC AOC-M提供了现代微电子制造所需的严格技术。