二手 IZOVAC Heliosiz #9395189 待售
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ID: 9395189
PEVCD Coater
Type: Lying down
Substrate: Silicon wafer
Membrane: a-Si:H, doped a-Si:H, SixNy:H
Substrate size: 156.75 mm x 156.75±0.25 mm
Deposition rates: 0.1 - 5 nm/sec
Coating technology: (2) CCPs
Double sided coating
Coating thickness: ≤±3% (Single layer)
Dry mechanical pumps
Process temperature: Up to 250°C
Manual loading / Unloading
Acceptance test: TBD
Chamber pressure:
Ultimate pressure: 1.1 Pa
Working pressure: 100 Pa - 1000 Pa.
IZOVAC Heliosiz是一款先进的光刻设备,旨在提供极其精确、一致和可重复的微涂层结果。它提供了一种严格控制的工艺,提高了复杂涂层在各种基材上的精度和可重复性。该系统将对所有涂层参数的全自动控制与综合计量相结合,允许快速的过程反馈和优化。该过程从使用电子束(EB)或深紫外线(DUV)曝光在基板上形成抗蚀层开始。然后利用缓冲水性显影溶液开发暴露的抗蚀层,以显示所需的表面图样。一系列的后暴露烘烤和后显影烘烤选项确保了最佳膜的形成.自动化软件控制单元允许基板加热、曝光和加工参数易于调整。它还在整个过程中提供了出色的数据完整性和可追踪性。为了确保批次之间的均匀性,机器包括自动采样和自动调整所有工艺参数。Heliosiz使用专门的流明线技术精确定位曝光头,以减少抗蚀层重迭的可能性。可以修改确切的暴露时间和暴露时间,以应对各种挑战,例如高水平的粉尘污染。它还提供曝光后烘烤,必要时,以防止过度曝光更微妙的抗蚀层。IZOVAC Heliosiz使用专门的染料涂层功能为设备提供多种涂层。该特征可用于保护细腻的特征,增强抗性材料的附着力,方便敏感活性材料的沉积。可以使用适当的计量工具来评估由工具执行的任何涂层的最终性能。Heliosiz是一种用途广泛、功能强大且精确的光刻胶资产,为各种基材提供高度可重复的涂层效果。自动化的过程控制和过程优化允许严格控制所有过程参数,而计量则允许快速调整模型的反馈。这为生产环境中已证明的一致过程提供了基础。
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