二手 KARL SUSS / MICROTEC Gamma 4M #293601750 待售

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ID: 293601750
优质的: 2007
(2) Coater / (1) Developer system Single end effector robot, 2"-4" GENMARK Robot Gas sensor cabinet Chemical delivery tank pressure cabinet CI Gas pressure regulator Developer: (2) Dispense arms Plate stack (4) Hot plates Chill plate Vapor prime chamber (Vacuum) Coater 1 : Process: BCB (3) Wafertech resist pumps Coater 2: (2) IWAKI Thin resist pumps PC Manuals Spares Power supply: 400 V, 3 Phase, 13 kVA, 60 Hz 2007 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC Gamma 4M是一种光刻胶设备,设计用于光刻胶的精确和精确开发。它是一个紧凑而坚固的光刻系统,可以满足现代纳米加工和光电应用的苛刻要求。MICROTEC Gamma 4M由准分子激光器、模板发生器、模式发生器、正交级、掩模对准器和计量单元组成。准分子激光器基于MICROTEC最新的激光平台,具有最先进的波长控制机器,在曝光时提供最高的重复性和准确性。激光的光束轮廓被设计成在很短的时间内均匀地暴露出均匀的抵抗结构。模板生成器使用高分辨率液晶屏来启用高级掩码模式,如SU-8、AZ-5214和高级集成结构。LCD针对低但非常精确的聚焦深度进行了优化,从而实现了最先进的分辨率级别。图样发生器采用激光书写工具,专门设计用于光刻高精度和亚微米结构的沉积。正交级允许对掩模对齐器和模式生成器进行精确对齐。Mask Aligner在开发过程中提供了尽可能高的分辨率,并采用了高精度、高度可调的设计,允许在整个光刻胶区域中均匀曝光。最后,计量资产确保KARL SUSS Gamma 4M的所有参数都符合要求的标准和规格。Gamma 4M机型提供了当今市场上最先进的光刻胶工艺之一。它是专业纳米加工和光电实验室以及研发机构的理想选择。KARL SUSS/MICROTEC Gamma 4M通过提供高分辨率激光写入设备、先进的液晶屏幕和可调节高度的掩模对准器等功能,成为当今最可靠、最精确的光刻系统之一。
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