二手 KARL SUSS / MICROTEC Gamma #293814499 待售
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ID: 293814499
晶圆大小: 8"
优质的: 2006
Spin coater, 8"
Coating module
No gearset cover
(2) Input/Output (I/O) ports
Genmark GB4 Robot
Mechanical centering station
(3) Hotplates
(2) Coolplates
No HMDS module
(2) Waste tanks
Wafertec F-30/F Photoresist pump
2006 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC Gamma是一种设计用于高分辨率微加工的光阻设备。光致抗蚀剂是一种感光材料,用于在基板上创建图样以进行微加工。MICROTEC Gamma系统采用高精度光纤照明装置,能够精确定位和曝光各种具有高分辨率图像的光刻胶。这台机器还具有一个内置的预对准级,它允许基板被精确地定位在镜头前的曝光过程。KARL SUSS Gamma工具非常适合单层光刻工艺和使用多层抗蚀层的多层工艺。它能够使用不同类型的抗蚀剂(包括标准抗蚀剂、负抗蚀剂和正抗蚀剂)生成特征大小从10微米到小于一微米的图样。Gamma资产具有模块化设计,允许根据应用程序使用不同的板尺寸和不同的光刻配置。KARL SUSS/MICROTEC Gamma模型也极为精确和可重复,使得产生高精度和可重复性的模式成为可能。MICROTEC Gamma设备的曝光过程可以用多种参数控制,包括曝光时间、灯功率、波长和聚焦位置。这使得该系统适用于应用具有高分辨率和图像可重复性的模式。KARL SUSS Gamma单元的一个独特特点是它的焦点移动控制,它允许在曝光时对焦点位置进行准确和可重复的监控。这有助于避免由于聚焦不正确而导致图像模煳,并确保分辨率最高的图像。伽马机还包括一个Peltier效应冷却工具,在暴露过程中精确精确地控制抗蚀层的温度。这有助于避免抵抗粘度的不良变化,从而提高模式的分辨率和可重复性。此外,KARL SUSS/MICROTEC Gamma资产还包括多种其他功能以方便其操作,如光学检视器以检查遮罩支架和基板、可编程自动对焦跟踪模型以及控制曝光时间和其他参数的"计时器模式"程序。总体而言,MICROTEC Gamma设备是高分辨率微加工的杰出光刻系统,为要求最苛刻的应用提供了精确、准确和可重复性。
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