二手 KARL SUSS / MICROTEC Gamma #9284546 待售
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ID: 9284546
(2) Coater / (1) Developer system / (1) HDMS / (3) HP / (1) CP, 12"
Si Wafer, 8"
Coating uniformity: < 1.0%
Spin RPM: 0 ~ 6000 RPM
Maximum accuracy: 1 RPM
Acceleration: 10~30000 RPM/S
Temperature range:
3-HP: 60~250°C (±0.5)
CP: 20~25°C (±0.2)
HMDS: 60~200°C (±0.6)
2011 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC Gamma是一种设计用于高精度微结构应用的双光束光刻设备。它能够对直径达200毫米的基板进行平版印刷，分辨率可降至几纳米。MICROTEC Gamma利用高分辨率步进光学器件产生保真度非常高、失真非常低的光掩模。KARL SUSS伽玛由两个电子束系统组成，一个光掩模发生器和一个曝光系统。光掩模发生器使用电子束在光掩模上绘制特征。绘制特征的分辨率由束的能量、束的大小和束的电流密度决定。然后，这种光掩模被用来生成一个玻璃上的铬蒙版，它是通过湿蚀刻过程进行图桉化的。曝光单元的工作原理是通过一束聚焦紫外线通过光掩模来暴露基板表面。这种光通过聚焦或散焦光束被非常精确的调制，从而允许非常详细的特征定义。光的强度由光束的功率决定，这是可调速的。一旦暴露，基材在传统的基于抗蚀剂的开发解决方桉中开发。由于这一开发过程，光掩模上的任何特征和图桉都将被复制到基板上。伽玛具有多种优点，包括可重复性、分辨率和独特的特性。其电子束技术通过控制每个特征在基板上的位置和形状，提高了精度和重复性。该机器的高分辨率光学器件允许10 nm以下的功能分辨率,从而支持高级应用程序。进一步的特点包括先进的拐角和斜坡技术，允许制作完美光滑的光掩角和优化的斜坡，大大提高产量和提高特征保真度。总体而言，KARL SUSS/MICROTEC Gamma光刻工具是光刻工艺的强大而精确的工具。其先进的电子束优化、高分辨率光学以及稳健的开发相结合，使得顶尖的微结构和阵列化应用得以实现。
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