二手 KARL SUSS / MICROTEC RC 8 MS2 #9262863 待售

KARL SUSS/MICROTEC RC8 MS2是设计用于先进光刻工艺的光刻设备。它能够形成高达20 μ m厚的光致抗蚀层，快速的发育时间仅为60秒。该系统配有加热真空卡盘和自动曝光级，可精确控制抗蚀剂厚度和临界尺寸精度。该设备的设计可靠性是为了获得最高质量的照相打印机,其分辨率远远超出标准接触打印机的分辨率。它与广泛的光致抗蚀剂高度兼容；MICROTEC RC8 MS2上的焦点调整机和自动定位阶段确保了准确的重复性。该工具包括一个用于旋转涂层的顶部加载旋转器，以及一个保持恒定抵抗厚度的电动升降机。KARL SUSS RC8 MS2还拥有先进的控制软件和优化的用户界面。所有这些功能,加上专门的报告生成、与SOP的集成以及其他高级光刻软件,使该资产成为那些需要最高性能和质量的用户的强大而可靠的解决方桉。RC8 MS2采用电磁干扰（EMI）技术精确控制沉积过程。这项技术有效地控制了高频电子的流动，从而防止了抗蚀层在开发过程中受到破坏或破坏。该模型还配备了先进的软件，能够对抗蚀剂轮廓进行预测建模，从而确保光图案的准确性和可重复性。KARL SUSS/MICROTEC RC8 MS2既兼容液体光刻胶又兼容厚膜光刻胶，适用于生产级微结构激光烧蚀和光学光刻。适合于微电子器件、MEM、微透镜、纳米线等的开发。MICROTEC RC 8 MS2包括一个大型真空卡盘，能够容纳尺寸达300毫米的光刻胶，并提供25 C°至250 C°的大温度范围。该设备还包括一个蜂箱化学模块，最多有四个站。最后,系统具有触摸屏界面和自动环境控制,包括清洁周期设置。综上所述，KARL SUSS RC8 MS2是一种可靠、性能高的光阻装置，能够生产出分辨率最高的高精度和复杂的光相片。它提供了广泛的功能,包括高级控制软件、高级EM辐射技术、自动暴露阶段、预测建模功能和自动环境控制,使其成为那些需要最高质量的光图纸和抗拒轮廓的用户的完美解决方桉。