二手 KARL SUSS / MICROTEC RC 8 #9207171 待售

KARL SUSS/MICROTEC RC 8是一种光阻设备，专门设计用于生产高分辨率的微结构和集成电路。这个系统使用暴露于紫外线（UV）光下的单个抗蚀层来创建电子束抵抗图像。该设备能够在直径最大为8英寸、分辨率为5 μ m的晶片上产生具有亚μ m特征大小的高分辨率图样。MICROTEC RC 8单元的设计允许非接触和接触曝光模式。在非接触模式下，样品在使用真空卡盘抵抗暴露期间保持在适当位置。然后使用电子束根据载荷模式将适当的几何形状编程到抗蚀剂表面上。在接触模式下，使用模具般的抗蚀面膜来暴露晶片表面。在精确度方面，这台机器的特征尺寸分辨率为5 μ m，可以暴露低至10 μ m的曝光线长度的图桉。该工具还包括最高温度为250 °C的Hotplate。这允许优化模式从抗蚀层转移到底层材料的过程。此外，资产还可以在空气、氮气或真空中操作。这使芯片生产商能够在制造过程中减少污染物的产生。KARL SUSS RC8型号配备了多种安全功能，使其用户友好且使用安全。它具有保护用户免受UV光影响的外壳，防止意外暴露于UV光的互锁，以及有助于确定图像曝光时图样阻挡区域的alpha源。此外，该设备还可以与各种抗蚀剂一起使用，并且易于在几批晶片之间进行清洁。总体而言，RC8系统能够在特征大小分辨率低至5 µm的晶片上产生高分辨率模式。还配备了多种安全特性，使用方便。该设备功能广泛，非常适合用于生产高分辨率微结构和集成电路。