二手 KARL SUSS / MICROTEC RC 8 #9365908 待售

KARL SUSS/MICROTEC RC8是一种光刻设备，在多种薄膜和光掩模基板上进行临界蚀刻和光刻工艺。该系统使用严格的照相过程将图样轮廓到薄膜层上，这些薄膜层可应用于各种基板，用于集成电路应用。具体来说，它可以处理直径可达400毫米的基板，并且可以装备处理各种特种抗性材料如AZ、GX1、GX2和PFE。该单元使用高度精确的对齐机，以确保跨基板的图样紧密配准；包括一个16点自动对焦工具，可用于帮助在复杂的基板表面上定位和塑造抗蚀剂图桉。此外，该资产的设计目的是利用两个基板移动水平，这有助于提供现场登记的精确度。该模型可实现直接写入激光光刻，对于快速快速高精度地创建复杂图样特别有用。此外，还针对干蚀刻、湿蚀刻和深反应性离子蚀刻等激进的灰化和蚀刻工艺进行了优化。除了直接写入激光光刻之外，该设备还能够使用各种可用于将图样直接暴露于基板表面的光掩模。这样就可以以比直接激光光刻更高的精度创建更详细和复杂的图样。MICROTEC RC 8既有高功能又有低成本的流程。它设计用于低电荷和低热负荷,这意味着KARL SUSS RC8既可用于快速原型设计,也可用于高效批量生产高质量和复杂的详细模式。此外,它的5 µm精度可确保在多个使用周期内以保持一致的紧密公差复制图样。总体而言，RC8的设计旨在为各种集成电路应用提供精密的光刻蚀刻和光刻工艺。它能够以精确的配准方式将图样暴露在基板表面，从而对质量一致的复杂图样的批量生产非常有用。