二手 KYOWA RLE-52ES #9393172 待售

KYOWA RLE-52ES是一种光刻光刻设备，利用光源将图像或线圈的投影投射到基板上，用于各种印刷和制造目的。该系统适用于包括PCB制造和光学在内的各种苛刻应用。这种高精度的工具可以将模式提交到亚微米级分辨率，以便精确准确地生产。此外，结合先进的扫描技术，其快速稳定的照明能力提供了卓越的分辨率和均匀性。RLE-52ES光源已被确定为最高效率和光纤兼容。它由两个具有高电流电源的弧光灯组成，而另一个电源为均匀照明部分提供照明。额外的照明选项，如UV波长灵敏度允许更广泛的模式设计的可能性。该机配备了自动化的舞台控制，对各种基材具有较大的扫描面积。改进的分辨率、准确性和可重复性可提供更高的性能和效率。曝光区域的中心由X、Y和θ轴对齐，并且由于先进的自动校正工具而易于调节。KYOWA RLE-52ES中的光致抗蚀剂非常重要，因为它允许形成图样所需的适当曝光时间。资产的虚拟对齐系统通过将曝光区域中心模式与曝光的设计进行比较来确保精确对齐,从而确保完全准确的流程。对齐模型还可以减少工艺过程中出现的失配现象，提高产量，优化工艺性能。作为光刻的重要组成部分，开发者还必须考虑基板内的缺陷水平。RHS-SAF51及其辅助系统对缺陷进行检测和分类，而设备的光源和自动化特性可以控制底物缺陷的可检测性。此外,RLE-52ES功能优化了配方创建选项,以增强缺陷控制和精确确定关键维度（CD）区域。总体而言，该系统为用户提供了一种用途广泛且准确的光刻方法。其高质量的分辨率、自动化的特性和缺陷控制组件允许广泛的应用和快速而精确的制造过程。