二手 LAURELL WS-400B-6NPP #293822285 待售

LAURELL WS-400B-6NPP是一种台式光敏处理设备，适用于许多电光处理应用，如薄膜沉积、蚀刻、绝缘层压、光敏涂层等。这款先进的多合一系统旨在为用户提供卓越的性能和严密的流程控制。它具有一个特色的温度控制平台，一个强大的6kV电源，和一个4区扩散照明。温控平台有一个大的处理室，可以达到最高80°C的温度，并且可以设置在1°精度以内，用于精密处理细腻的光掩模和抗蚀层。4区漫射照明器可设置为达到25至75 W/cm2的照明水平，同时仍可在光掩模或晶圆的整个表面提供均匀照明。这样可以使抗蚀层更均匀、一致的平版印刷曝光。此外，照明可以微小的增量调整，以微调光刻工艺。WS-400B-6NPP的电源最大功率输出为6kV。这允许在晶圆或光掩模上沉积保形薄膜或形成定义明确的蚀刻图样，同时仍保持严密的工艺控制。LAURELL WS-400B-6NPP具有6kV的动力源，可以用来刻蚀深沟和特征，从而准确地产生微流体通道等结构。此外，该装置还配备了专用的激光感应温度控制（LITC）机，用于测量光刻过程中光刻胶的精确温度，以尽量减少热漂移并确保最佳光刻效果。还包括一种自动抗蚀剂涂层工具，它允许将抗蚀剂层均匀分配到晶圆或蒙版上。这样可以确保准确和一致的结果,并最大限度地减少因手动分配抗蚀剂而产生的变化。总体而言，WS-400B-6NPP是一种先进且用途广泛的资产，适用于各种不同的光刻胶处理应用。通过其精确的温度控制、6kV电源、4区漫射照明器、自动抗涂层模型，用户可以在实现严密工艺控制的同时实现精确一致的光刻效果。