二手 LEYBOLD APS 1104 #9092775 待售
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ID: 9092775
优质的: 2009
Evaporator
Mechanical pump
Quartz head monitoring
Diffusion pump
Root pump
Dual E-beam guns
MFC's Chambers
Coating materials: TA2O5 and SIO2
Arch fixture
Pumping system:
Mechanical pump set:
(2) Stages: Single stage / Dual stage
Rotary
Roots
RUVAC WS501 11732
TRIVAC D65B
Diffusion pump ((7) Screw connections)
OMS 3000 Optical monitoring system
Poly cold unit
Film thickness monitor:
XTC-3 Crystal film thickness monitor
Single quartz crystal
APS System:
APS Plasma source
Standard leycom APS
K9 APS Control unit
TA150 APS Power supply unit
TP250 APS Heater unit
EB-Gun system:
(2) EB Guns ESV14
EB Gun HV 10.3
Shielding:
Cooling water division
LEYBOLD APS 1104 Manual
Voltage: 380 V
2009 vintage.
LEYBOLD APS 1104是专门为用户提供光刻工艺完整、准确的工作流程而设计的光刻设备。该系统由一组工具组成，用户可以在任何需要的环境中精确地模拟曝光和开发光刻工艺。在其核心，APS 1104使用4步工艺来准备晶圆曲面。首先，晶片暴露于能够产生紫外线和深紫外线的光源。这种暴露会使光致抗蚀剂变硬和变敏。其次，在显影浴中开发光致抗蚀剂，以暴露底层底物。第三，晶片经过湿蚀刻过程来定义曝光模式。最后,晶片经过后处理蚀刻,在此过程中将曝光的图样转换为所需的3D轮廓。该设备还具有许多令人印象深刻的功能，例如其先进的光学成像机，它可以检测到小到10nm的远场非线性。该工具有助于减少光刻胶的污染，并与运动资产一起调整光的焦点，以便准确地暴露整个视野。LEYBOLD APS 1104每小时也可以处理多达1000个晶圆，确保开发时间最多为每种模式20分钟。其低温操作，加上其数字温度控制器和热电偶，确保了光刻胶层在过程中不会受到损坏。APS 1104具有很高的精度，部分由其高精度步进控制器和压电传感器实现。该模型还具有直观的用户界面,以及各种调试工具,使用户能够快速轻松地对光刻过程进行建模。总体而言,LEYBOLD APS 1104是光刻设备的绝佳选择。它精确高效，是光刻工艺发展的理想选择。
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