二手 LEYBOLD APS 1104 #9226191 待售

LEYBOLD APS 1104是一种光刻设备，设计用于光刻和高精度光刻工艺。它特别适用于微电子器件的制造和纳米技术。光刻胶系统由光源和光学器件、光掩模以及光刻胶涂层应用和固化站组成。光刻装置有一个可定制的光源，它由耦合到可调光机的光源组成。该光源设计为提供宽广、均匀的光图样能力，具有可调的光学聚焦和均匀的光斑尺寸。这确保了光敏区域的最佳均匀曝光。一个集成的快门和强度控制允许多次曝光与不同的光强度的设计特点的细化。Photomask工具是打印工作站的重要组成部分。用于打印和曝光过程中的对齐和配准。光掩模工具可根据自定义角度和旋转角度进行调节。此外，它高度精确和微调的注册有助于在基板上实现均匀覆盖。光致抗蚀剂涂层站设计用于均匀应用和固化光致抗蚀剂。它有一个集成的旋转和滚动分配喷嘴，提供均匀，均匀覆盖基板和应用的连续模式。固化站允许预定义光刻胶固化的温度和持续时间。APS 1104还具有一个集成的洗涤和干燥站，用于去除和开发基板上的结构。该站包括一个刷子工具，非常适合在光刻沉积之前清洁基板表面。总体而言，LEYBOLD APS 1104是微电子和纳米技术研究应用的优秀光刻资产。其可调光源和光学器件、光掩模、光敏涂层站提供了光敏区域的精确控制和均匀曝光。该模型还配备了一个洗涤干燥站，用于准备和开发基板上的结构。