二手 LEYBOLD APS 1104 #9308995 待售

LEYBOLD APS 1104是一种光刻胶设备，设计用于玻璃基板、硅片、有机聚合物薄膜等光刻胶和基板。它非常适合制造集成电路、平板显示器和光电器件。APS 1104能够将受控层的光刻胶沉积到所需的基材上。它采用了多级抗喷射技术，以确保精确、均匀的抗喷射覆盖。根据所需的层厚度，容易调整抗喷射系统。此外，该装置还具有可调节的喷嘴尺寸，用户可以控制阻抗流速，从而实现所需的沉积。此外,该单元还包括一个集成的机器自动阻挡流量和模式.LEYBOLD APS 1104还具有智能直观的硬件和软件界面,允许用户使用分辨率、曝光时间和模式大小等参数对工具进行编程。这使得资产具有很高的适应性和易用性。APS 1104由一个基本单元、抵抗源、抵抗喷头、电源和软件模块组成。基地单元容纳了主要的运行机制如抗蚀剂分配机制、喷头、电源和软件模块。抗蚀剂源含有抗蚀剂，设计为能够处理均匀精确的层厚度。抗蚀剂喷头设计用于将预编程的抗蚀剂量精确地输送到指定的基板上。电源用于提供操作模型所需的电源。最后,软件模块用于创建定义设备参数的预定义设置。总体而言，LEYBOLD APS 1104是在各种基质上进行光敏沉积的理想系统。它旨在提供精确、均匀的抗蚀剂覆盖范围，软件模块可确保易于编程。