二手 LEYBOLD APS 1104 #9377873 待售
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ID: 9377873
Vacuum deposition system
Chamber
Water manifold
Compressed air network
Control cabinets
Internal meissner trap
Planetary rotation drive
IR Heaters
Manuals
D65 Mechanical pump
WS501 Roots pump
ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER DIF501 Diffusion pump
Vacuum valves
POLYCOLD 1104-HC Pump with refrigerator
Combivac CM31 Vacuum gauge with gauge head
ITR100 Vacuum gauge with gauge head
THERMOVAC Gauge
Gas inlet system:
(3) Mass Flow Controllers (MFC) with valves
Tubing
Feedthroughs
APS Plasma source with power supplies
Deposition sources:
2- ESQ 212 E-Guns with rotation motor
Shutter assembly
HV10.3 E-Gun power supply
With programmable deflection controller
Remote control for E-gun sources
OMS 3000/R Thickness monitor
(3) Crystal sensors
(2) Dual sensors
With (2) QSM boards
LEYCOM IV
Automatic process and controller.
LEYBOLD APS 1104光刻胶设备是一种高效、低成本、可靠的光刻胶加工工具。加工光致抗蚀剂包括将感光膜施加到基板上，然后将膜暴露于产生光致抗蚀剂的光中。这种光致抗蚀剂，一旦图样已经被蚀刻到它，作为一个层阻断杂质扩散到基材。APS 1104光刻胶系统采用闭环设计，具有多个可互换的湿处理模块，每个模块都针对特定的光刻胶工艺量身定制。这使用户能够创建和复制复杂的图样和光刻胶层,包括高分辨率和可重复的图样。此外,该单元还具有灵活性,具有可互换模块和广泛的配置,可满足各种应用程序要求。LEYBOLD APS 1104光刻机效率高、性价比高，在印刷和胶版光刻、印刷电路板、微加工和表面安装技术等多种应用领域使用时，提供卓越的图像质量。该工具提供多区域设计、泵站和过程监控资产，旨在减少在给定光刻步骤中花费的时间。此模型还可以配置为在单个运行中生成复杂的阵列模式,从而提高效率并消除多步骤光刻过程带来的潜在错误。此外，APS 1104光刻设备能够控制所需基板上涂层的厚度和图桉。LEYBOLD APS 1104光刻胶系统也提供了特殊的安全措施。该单位的内置安全功能旨在保护人员免受危险化学品和光敏废物的侵害。它还保护环境免受任何污染或大量排放。APS 1104 Photoresist Machine认证其环保合规性，使其成为许多工业应用的首选。简言之，LEYBOLD APS 1104光刻胶工具是市场上最高效可靠的光刻胶处理系统之一。它具有多种特点和功能，是任何光刻加工要求的绝佳选择。
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