二手 LYNX NTM RCL-15-1 #9149883 待售

LYNX NTM RCL-15-1光刻设备是用于创建集成电路和其他电子元件过程中的先进工具。该系统提供优越的光子模式，允许直接和间接的应用。该单元采用先进的光学设计,可最大化视场和分辨率,并同步运动控制。这种组合允许以最高效的流程和最高的吞吐量实现最高的模式精度。此外,该单元还与行业级控制器和高级软件协同工作,生成3D结构的高精度成像。NTM RCL-15-1光刻机产生的表面可用于各种微电子应用，从设备到微观元件。用户可以依靠其高精度成像在芯片上产生最复杂的设计。光刻工具利用空间和时间来清洁其组件。为此，该资产采用了运动控制和高级软件相结合的方式。因此，它可以产生厚度为十分之一纳米的光敏材料的均匀层。该型号采用高压源,维护时间长,维护速度低。光源可以产生低至2.5 μ s的超短曝光倍，用于更高分辨率的成像。该设备还确保整个样品的感光材料厚度均匀。这意味着最终产品的成本降低和质量提高。LYNX NTM RCL-15-1光刻胶系统被编程为与一系列计算机辅助设计（CAD）软件包交互。通过提供这些链接,用户可以使用功能强大的软件工具快速调整其设计的布局。NTM RCL-15-1光刻装置的用户也可以利用自动反馈控制。此功能可帮助用户跟踪和控制曝光时间,并快速调整以优化设计过程。该机还包括集成的安全功能，如自动温度调节和紧急关机过程。通过这些,LYNX NTM RCL-15-1光刻工具可以防止对组件的任何潜在损坏。总体而言,NTM RCL-15-1光刻胶资产是为高性能成像和阵列应用而设计的高级工具。它具有卓越的光子阵列、集成的安全特性和高效的工艺,是创建和阵列集成电路及其他电子元件的强大而可靠的选择。