二手 MC 2510S #9240580 待售

MC 2510S是一种高性能的光刻胶系统，用于创建电子电路和组件以及芯片级封装。它是一种负性光致抗蚀剂，暴露于光，然后用化学溶液处理，去除已经暴露的区域。这一过程允许在各种材料上创建精确的图桉和特征。2510S提供了一个高级水平的光致抗蚀剂的一致性在广泛的基材。它设计用于SiO2、Si和薄膜电路，以及其他几种材料，在创建电子元件时允许最大的灵活性。它能够支撑范围广泛的抗性厚度，从0.8微米到5微米不等。为了保持图样分辨率尽可能高，机器还加入了强大的激光，以便精确控制蚀刻和曝光过程。MC 2510S还提供了一些其他功能,使其可靠和有效。它有一个内置的冷却系统，以确保基板永远不会过热，并且包括针点精度，减少了由于错位而重新蚀刻的风险。除去裸露和蚀刻零件后,它提供的残留物很少甚至没有残留物,这使其成为创建高精度和细节零件的理想选择。这台机器还通过允许用户快速轻松地在多个基板之间切换来限制停机时间并提高工作效率。它具有多个探测器和传感器,可帮助确保所有进程参数都在可接受的范围内,并确保系统正常运行。最后,它拥有可存储配方和设置的高级软件,允许用户快速回忆它们以提高效率。简而言之，2510S是一台强大的光刻机床，有助于简化在各种基板上创建精确图样和特征的过程。它的高级功能有助于降低错位和污染的风险,而其强大的探测器和传感器则有助于确保所有进程正常运行。其灵活性和易用性使其成为任何电子元件或芯片级封装项目的绝佳选择。