二手 MIKASA 1H-D2 #9393317 待售

MIKASA 1H-D2是一种前沿光刻设备,旨在在具有挑战性的光刻应用中提供卓越的性能。光致抗蚀剂是用于制造集成电路的材料，使用光刻投影仪暴露于光。根据暴露的不同，抗蚀剂材料要么有选择地蚀刻掉，要么保留下来，形成复杂的模式，构成电路元件的基础。在苛刻的光刻应用中，1H-D2提供了比传统光刻胶更好的图样保真度。MIKASA 1H-D2包括两个主要组件：光敏抗性材料和图样工艺。光敏材料由聚合物粘合剂和各种添加剂组成，它们对不同波长的光有反应。当暴露在光源下，被暴露的抗蚀剂部分会变硬，而抗蚀剂的未修剪部分则会保持柔软。这允许蚀刻元件或图桉以产生错综复杂的图桉和结构。1H-D2系统的模式过程包括抗蚀剂暴露、显影和后期处理的一系列步骤。在曝光过程中，抗蚀剂被放置在光刻投影镜头上，并暴露在通过镜头的光源下。暴露后，并视暴露时间而定，抗蚀剂的暴露区域会变硬，而那些保持柔软的区域可以用化学蚀刻剂有选择地去除。在这一步骤之后，化学-机械发展过程发生了，它使用化学和机械方法的组合去除抗蚀剂的未反应部分。最后，进行后处理步骤，用另一种化学或机械方法除去任何残留的软性抗蚀剂。使用MIKASA 1H-D2光刻胶装置的优点包括比传统光刻胶更高的分辨率，以及减少晶圆损耗和显影时间。增强的抗蚀剂分辨率有助于改进阵列制作过程,并降低与设备制造相关的成本。此外,晶圆损耗和开发时间由于能够有选择地处理抗蚀剂的区域而减少,从而消除了设备设计不需要的区域。总之，1H-D2是一种在光刻应用中提供卓越分辨率和性能的最先进的光刻机。提高的分辨率有助于提高设备制造工艺，减少晶圆损耗和开发时间，使整个生产过程更加高效。