二手 MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-1408T LN #9243731 待售

MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-1408T LN是为半导体器件生产带来高精度和高品质设计的下一代光阻设备。该系统快速准确地创建薄膜层，用作生产高密度器件的光刻膜。MP-1408T LN设计为光刻胶曝光设备的经济解决方桉,可用于生产各种设备结构,如高速DRAM、闪存和3D堆叠芯片。该机采用专门的光学装置进行像差校正，其图像分辨率精度为0.25 μ m，最小线宽为0.06 μ m。MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-1408T LN利用超细间距非球面透镜作为其曝光源，能够在广泛的波长范围内为可见光和紫外线提供均匀的辐照。它能够扫描最大13,000mm/min，允许高速单束生产。此外，这台光刻机具有0.25至450 μ m的宽曝光范围和1 μ m/p至0.25 μ m的宽分辨率，以满足半导体器件生产的各种需求。MP-1408T LN使用自动聚焦工具实现高精度,并使用集成的监控资产密切跟踪整个操作过程。其先进的舞台模型能够分段空气轴承表运动和头部定位，允许微调和速度调整而不牺牲分辨率。通过使用随附的板载预处理软件，可以轻松实现工艺优化。此外,MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-1408T LN设备与其他光刻胶系统相比具有卓越的清洁度,因为其所有组件均按照最高质量标准设计和制造。这确保了半导体生产能够以最小的碎片完成，减少了设备污染的机会和可能的生产延误。总体而言，MP-1408T LN是一种高度先进的光阻系统，旨在为半导体器件的生产提供高精度和精确度。它具有一个光学单元，可以执行像差校正和广泛的曝光范围，有一个自动化聚焦机和预处理软件，用于优化过程。这台机器还设计了卓越的清洁度，确保生产可以用最小的碎片完成。