二手 MTI CORPORATION MSK-AFA-I #9283974 待售

MTI CORPORATION MSK-AFA-I光致抗蚀剂设备是一种先进高效的系统，旨在扩大半导体工业中光致抗蚀剂工艺的暴露面积。该单元将单个光掩模和光刻室与提供敏捷性、曝光面积和快速周转时间相结合的先进元件相结合。该机器利用一个集成的全自动级和一个光掩模来曝光光刻胶，与标准光刻胶工具相比，其曝光面积很大。自动化资产包括高速驱动模型、线性运动级、获得专利的LSS eXP级、集成光学设备以及先进的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）单元。该系统可实现比传统系统更大的暴露面积,并允许更高的吞吐量。MSK的线性运动级设计为高度通用，融合了变速驱动斜道和快速速度监视单元等元素。这样就有可能在曝光过程中更严格地控制光掩模移动时的加速度，并提供对曝光区域的精确控制，以便在创建复杂的光刻胶图桉时获得更高的精度。该机器还利用具有多任务目标的Smart EXposure™实现了新的灵活性和速度水平,同时提高了流程的效率。该工具还可以通过减少光掩模的使用量来减少曝光过程的长度，集成的光学资产可以将超过25%的光传递到连续波中。MSK-AFA-I模型还具有高达四级加热能力，允许在曝光过程中精确控制光刻胶的性能。由于获得了氟化镁（MgF2）CVD沉积工艺的专利，该设备还提供了高产率，从而显着提高了光刻胶对紫外线的灵敏度。该系统还配备了获得专利的SPClean100™装置，这是一台获得专利的清洁机器，它将真空吸尘器和湿蚀清洁工具结合在一起，以排出和清除光掩模中的所有残留物，为每次曝光提供干净可靠的光掩模。最后，MTI CORPORATION MSK-AFA-I资产配备了专有软件包，允许简单修改设置、参数编程和自动操作。模型的图形用户界面（GUI）也让操作员对曝光过程有了更直观的了解，并允许对光掩模进行有效的控制，以实现每次曝光的高质量结果。MSK-AFA-I光致抗蚀剂设备是半导体行业光致抗蚀剂工艺的先进高效工具。它利用集成的自动化组件和软件来增加接触面积,并提高灵活性和准确性和一致性。该系统还提供强大的清洁功能以及高产速度,使其成为任何光刻胶生产应用的理想解决方桉。