二手 MTS 1913-E01 #9046517 待售

MTS 1913-E01是一种设计用于微电子制造过程的光刻设备。它是一种自旋式光刻胶系统，设计用于涂层工艺，是半导体制造基材制备中最常用的工艺。1913-E01光致抗蚀剂单元由两个组成部分组成：敏化抗蚀剂，即施加在基板上的光致抗蚀剂；显影剂，用于去除抗蚀剂的非活性和暴露部分。传感器抗蚀剂是一种水溶性液体配制的产品，含有在涂抹时在基板上提供薄膜堆积的组件。它与特定波长的紫外线发生化学反应。在暴露于紫外线后，基板再使用显影剂溶液开发。显影剂溶液中含有反应性化合物，当活化时，只会蚀刻掉暴露的光致抗蚀剂材料，从而在底物上产生蚀刻的图样。MTS 1913-E01光致抗蚀剂机经过大量的测试和应用在各种微电子过程中。它是一款高性能的工具,具有出色的分辨率和出色的边缘清晰度。它还提供了异常均匀性的抗蚀剂残留，并且可以精确控制，以达到精确的层和特征尺寸。该工艺为微电子制造提供了一种高可靠性、高成本效益的光刻材料。该模型易于使用,需要最少的操作员培训,并且无需手动预处理。它还具有极好的保质期稳定性，存放在清洁凉爽的环境中。此外，它的高溶剂电阻使其能抵抗侵略性有机溶剂、酸和碱。总之，1913-E01光致抗蚀剂设备是制造半导体和微电子器件的理想选择，在分辨率、边缘定义、层均匀性、成本效益和与腐蚀性溶剂的兼容性等方面均取得了优异的效果。