二手 NEC FC-9821Ka #293663397 待售

NEC FC-9821Ka是NEC开发的光刻设备，用于各种薄膜沉积和蚀刻应用。该系统可处理各种基板,并提供高达10nm的无与伦比的特征分辨率。该装置利用最新的LCOS（Liquid Crystal on Silicon）技术，以无与伦比的方式聚焦光刻胶。FC-9821Ka机器包括最新的晶圆检测技术，用于特征的精确表征。此工具专为高级图样化应用而设计,如挖沟、填充、亚微米设计特征蚀刻和侧壁沉积。曝光过程是基于光刻过程。利用先进的基于LCOS的标线控制资产和激光控制对准对准（FLA）模型，该设备可以提供无与伦比的分辨率。该系统使用的光刻胶具有高纯度，可以图样化到150 nm。NEC FC-9821Ka还配备了等离子体聚焦离子束（PFIB）单元，用于薄膜材料的蚀刻和干燥沉积。氦辉光放电源具有良好的等离子体蚀刻选择性，运行成本相对较低。PFIB机还采用超高亮度来处理精细的遮罩层，用于先进的光刻。FC-9821Ka中包含的涂料-显影剂单元包含化学和自旋涂层功能,提供从基本情况到超复杂情况的各种光致抗蚀剂应用。综合曝光后烘烤工艺确保了准确和可重复的晶圆加工结果。为了最大限度地提高正常运行时间,该工具配备了打印和开发购物车。它是遥控的，无需人工干预即可锻炼机器的所有特性。诊断有助于识别难以处理的晶片或玻璃片。它还使流程优化能够实现更高的可重复性和准确性。总之,NEC FC-9821Ka是一种用途广泛、功能强大的光刻材料,具有优异的性能和可靠性.凭借其先进的技术和对参数的深度控制，该模型可用于各种薄膜沉积和蚀刻应用。该设备提供高水平的精确度和可重复性，同时由于其集成的PFIB和涂料开发系统，也将运营成本降至最低。