二手 NTACT / GS GLOVEBOX nRad #293725233 待售
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ID: 293725233
晶圆大小: 6"-8"
Die coater, 6"-8"
Glove box
Substrate size: 210mm x 300mm
Coating thickness range (Dry): 20 nm - 100 µm
Coating uniformity: ±3% - ±5%
Leading / Trailing edge effect: 5 mm - 10 mm
Coating material viscosity: 1 cP - 70 cP
Range: Up to 5000 cP with high viscosity pump
System fill volume: As low under 10ml
Substrate type: Glass, Plastic, Metal foils, Silicon wafers, Rigid / Flexible
Substrate thickness:
Rigid: 0.5 mm - 6 mm
Flexible: > 100 µm
M-LINE
(2) Filters
Activated carbon filter.
NTACT/GS GLOVEBOX nRad是为先进半导体制造工艺而设计的最先进的光刻设备。该系统结合了尖端技术,对光刻胶的应用、曝光和开发提供精确控制,确保了半导体器件制造的高质量成果。该装置配有手套箱设计,以维持一个没有污染物的受控环境,使光敏材料能够可靠和可重复的处理。NTACT nRad机器具有一种专门的辐射源,用于精确、均匀地曝光光敏涂层。辐射源被设计成以高强度传递特定波长的光,允许在半导体基板上精确图样化光刻石层。这种能力对于定义半导体器件表面的复杂模式和结构至关重要,例如集成电路和微机电系统。该工具还包括一个复杂的控制界面,使用户能够微调曝光参数,如光线强度、曝光时间和图桉大小。这种控制水平对于优化光刻胶工艺和实现所需的半导体制造分辨率和模式保真度至关重要。此外,资产还配备了先进的监测和反馈机制,以确保性能一致,最大限度地减少光刻胶制图过程中的可变性。GS GLOVEBOX nRad模型的主要特点之一是它能够在手套箱环境中运行。手套箱设计提供了密封和受控的大气,保护敏感的光刻胶材料不受污染物的影响,如水分、灰尘和空气中的颗粒。这对于在加工过程中保持光刻胶层的质量和完整性至关重要,这对于实现半导体制造的高产率和可靠性至关重要。NRad设备还配备了先进的安全功能,以保护操作员,防止操作过程中发生事故。这包括联锁、安全传感器和紧急关闭机制,以确保危险材料和辐射源的安全处理。此外,系统还考虑了人体工程学因素,以提高用户在长时间重复处理任务中的舒适度和工作效率。在性能方面,NTACT/GS GLOVEBOX nRad单元提供了光刻胶加工的高吞吐量和效率,使其适合于半导体器件的批量生产。该机的设计满足了半导体工业的苛刻要求,包括高分辨率、均匀性和光刻胶图样的可重复性。通过利用先进的技术和创新的设计功能,NTACT nRad工具可帮助半导体制造商在制造过程中实现卓越的质量和性能。总体而言,GS GLOVEBOX nRad资产代表了半导体制造中最先进的光刻胶加工解决方桉。凭借其先进的技术、精确的控制和可靠的性能,该模型使半导体制造商能够满足对高性能和高密度半导体器件不断增长的需求。nRad设备作为半导体制造过程中的关键部件,在推动创新和推进半导体技术能力方面起着关键作用。
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