二手 NTACT nRad 2 #293736651 待售
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ID: 293736651
Die coater, 12"
Uniformity: ±3%
Maximum coating speed: 100 mm/s
Coating thickness: 20nm - 100µm (dry)
Fluid viscosity: 1cps - 60cps
Manual substrate handling
UL and CE Compliant
Compressed gas supply: 100psi
Vacuum: 25 in HG
Power supply: 15 A, 120 VAC, 50-60 Hz, 1 Phase, 3 wire.
NTACT nRad 2是一款先进的光阻设备，专门设计用于半导体制造、平板显示器生产和其他微电子行业的高分辨率图样和成像应用。该系统具有广泛的特性和功能,非常适合用于生产复杂的集成电路、传感器和微机电系统（MEMS）。NTACT NRAD2光刻单元的一个关键特点是其高精度和重复性，这对于实现半导体光刻所需的模式保真度和分辨率至关重要。该机配备了先进的光学对准和聚焦能力，允许光刻胶层与底层进行精确对准。这样可以确保以高分辨率和保真度将刀具创建的图样精确传输到基板上。NRad 2资产还提供了广泛的曝光选项，包括UV、深层UV和电子束光刻，允许用户根据自己的具体应用要求选择最合适的曝光方式。该模型能够处理各种光致抗蚀剂材料，包括正负色调抗蚀剂，以及化学放大抗蚀剂，为用户选择最适合其工艺需要的抗蚀剂提供了灵活性。除了其高精度和灵活性之外，NRAD2光刻设备还提供高吞吐量的能力，允许对大面积基板进行快速的图样化和成像。该系统配备了高速级和机器人处理能力，能够在一次运行中高效处理多个晶片。这种高通量能力对于满足大容量半导体制造和其他微电子应用的生产需求至关重要。NTACT nRad 2单元的另一个主要优点是其先进的工艺控制和监控功能,使用户能够优化和微调其光刻工艺,以获得最佳效果。机器配备了实时监控工具，使用户能够跟踪曝光剂量、聚焦、对准精度等关键工艺参数，使他们能够快速调整以优化其光刻工艺，并确保一致的图样效果。总体而言，NTACT NRAD2光阻工具是在半导体制造和其他微电子应用中用于高分辨率图样和成像的强大而通用的工具。凭借其先进的精度、灵活性、高吞吐量能力和先进的工艺控制功能，这一资产是希望在其先进微电子设备中实现高质量图样化结果的研究人员和制造商的理想选择。
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