二手 NTACT nRad 2 #293802863 待售
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ID: 293802863
优质的: 2021
Flat panel extrusion coating system
(2) Filters
Carbon filter
Die head: 370 mm
Vacuum bed
HEPA FFU With control
Magnehelic gage
Priming chuck
Priming trough
Stainless steel: 300 mm
Syringe pump
Granite vacuum chuck: 370 mm x 470 mm
Thickness range: 20 nm to 100 m
Viscosity: 1 Cps to 50 Cps
2021 vintage.
NTACT nRad 2是为半导体制造和其他微加工工艺中的高精度光刻应用而设计的先进光刻设备。这一创新系统结合了前沿技术和行之有效的性能，为基板上的光刻胶层设计提供了非凡的效果。NTACT NRAD2单元的核心是在深紫外光谱（DUV）中发光的高强度紫外光源。这种紫外线对于激活光致抗蚀剂材料是必不可少的，使其发生化学反应，并对随后的加工步骤变得敏感。对紫外光照强度和曝光时间的精确控制对于实现光刻胶层所需的分辨率和图样保真度至关重要。nRad 2机器的关键特性之一是其精密的曝光控制机制，它允许用户微调每一个光刻步骤的参数。这种控制水平对于在需要多个接触步骤或不同接触剂量的复杂模式过程中取得最佳结果至关重要。该工具还结合了高级对齐和迭加功能，以确保在基板上准确定位图样。除了先进的曝光控制功能外,NRAD2资产还提供一系列定制选项,以适应特定的流程要求。用户可以选择不同的光刻材料，包括正负色调抗蚀剂，以及从各种基材类型和尺寸中进行选择。该模型还与接触光刻技术和接近光刻技术兼容，为不同的图样制作过程提供了灵活性。NTACT nRad 2设备的另一个重要方面是其用户友好的界面和软件控制系统。直观的软件界面允许用户轻松设置光刻配方，实时监控工艺参数，快速分析结果。这简化了整体工作流程,并将光刻处理过程中出现错误的风险降至最低。NTACT NRAD2单元旨在满足现代半导体制造和微加工工艺的苛刻要求。其高精度、可靠性和功能性使其成为研发实验室以及生产设施的理想选择,而生产设施要求在阵列化光刻胶层时获得一致且可重复的结果。总之，nRad2光刻机代表了光刻设备的一项重大技术进步，为各种微加工应用提供了无与伦比的性能和多功能性。凭借其先进的功能、可定制的选项和用户友好的界面,NRAD2工具是在半导体和其他高科技行业中实现高质量阵列设计结果的宝贵工具。
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